
- 制造厂商:AD/ADI(Analog Devices,亚德诺半导体)
- 类别封装:隔离器 > 数字隔离器,封装:20-SOIC
- 技术参数:DGTL ISOLTR 5KV 2CH LVDS 20-SOIC
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ADN4655BRWZ是亚德诺半导体(Analog Devices)推出的一款基于磁耦合iCoupler技术的双通道高速数字隔离器。该器件采用先进的芯片级变压器技术,在单芯片上集成了隔离功能与LVDS(低压差分信号)接口,实现了信号隔离与高速数据传输的高度集成。其核心架构通过磁耦合方式穿越隔离栅传输数字信号,避免了传统光耦器件因LED老化带来的性能衰减问题,确保了长期稳定性和可靠性。这种设计在提供高达5000VRMS电气隔离的同时,实现了极低的传播延迟和优异的信号完整性。
该器件专为高速差分信号隔离而设计,其关键特性在于支持高达1.25Gbps的数据速率,同时保持极低的时序误差。其传播延迟典型值极低,且通道间匹配度极高,这对于需要精确时序控制的高速系统至关重要。器件具备卓越的共模瞬变抗扰度(CMTI),最小值达25kV/s,能够有效抑制隔离栅两侧因功率开关或电机驱动等产生的快速电压瞬变所带来的干扰,确保在恶劣工业或汽车电气环境下的数据通信可靠性。其工作温度范围覆盖-40°C至125°C,满足严苛的工业与汽车应用要求。
在接口与电气参数方面,ADN4655BRWZ每侧包含一个通道,构成两个单向隔离通道(输入-侧1/侧2:1/1)。它采用2.5V单电源供电(范围2.375V至2.625V),功耗低,易于系统设计。其LVDS接口符合ANSI/TIA/EIA-644标准,典型上升/下降时间仅为350ps,有助于维持信号质量并减少电磁干扰(EMI)。器件采用20引脚宽体SOIC封装,提供充足的爬电距离和电气间隙以满足高隔离电压要求。对于需要可靠供应链和技术支持的客户,可以通过官方授权的ADI一级代理商获取该产品及相关设计资源。
ADN4655BRWZ的应用场景广泛,尤其适用于需要高速度、高抗扰度电气隔离的领域。它是工业自动化系统中隔离式高速串行通信接口(如SERDES、摄像头链路)、电机驱动与控制单元之间隔离式反馈信号传输、以及医疗设备中高分辨率图像数据隔离传输的理想选择。在汽车电子中,可用于电池管理系统(BMS)与域控制器之间的高速隔离通信,或车载娱乐系统与外围设备的数据链路保护。此外,在测试测量设备、可再生能源逆变器以及任何需要将敏感高速数字电路与高压或噪声环境进行可靠隔离的场合,该器件都能提供卓越的性能保障。
- 型号:ADN4655BRWZ
- 品牌:Analog Devices Inc. (ADI,亚德诺半导体)
- 封装:20-SOIC
- 类目:隔离器 > 数字隔离器
- 描述:DGTL ISOLTR 5KV 2CH LVDS 20-SOIC
- 包装:管件
- 产品状态:在售
- 技术:磁耦合
- 类型:LVDS
- 隔离式电源:无
- 通道数:2
- 输入 - 侧 1/侧 2:1/1
- 通道类型:单向
- 电压 - 隔离:5000Vrms
- 共模瞬变抗扰度(最小值):25kV/s
- 数据速率:1.25Gbps
- 传播延迟 tpLH / tpHL(最大值):4.5ns,4.5ns
- 脉宽失真(最大):-
- 上升/下降时间(典型值):0.35ns,0.35ns(最大)
- 电压 - 供电:2.375V ~ 2.625V
- 等级:-
- 资质:-
- 工作温度:-40°C ~ 125°C
- 安装类型:表面贴装型
- 封装/外壳:20-SOIC(0.295,7.50mm 宽)
- 供应商器件封装:20-SOIC
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ADN4655BRWZ是ADI公司的一款双通道、基于磁耦合技术的LVDS数字隔离器。该器件提供高达5000VRMS的电气隔离和出色的25kV/s共模瞬变抗扰度,确保在存在高压差和电气噪声的环境中实现可靠的数据传输。
其核心优势在于支持高达1.25Gbps的数据速率,同时保持极低的传播延迟(最大值4.5ns)和快速的350ps(典型值)上升/下降时间,专为对时序要求严苛的高速差分信号隔离应用而优化。器件采用2.5V单电源供电,工作温度范围为-40°C至125°C,采用20-SOIC封装,适用于工业自动化、汽车电子和医疗设备等需要高性能信号隔离的领域。



















